據(jù)統(tǒng)計,半(bàn )導體(tǐ )制造廠每小時的耗電(diàn )量高達100兆瓦時,相(xiàng )當于8萬多戶北美家庭的(de )用電量。特(tè )別是極紫(zǐ )外(EUV)光刻技術,作(zuò )為7納米及以下先進制程的核(hé )心設備,其耗電量尤為(wéi )驚人——2020年,臺積電EUV光刻機用電量(liàng )就達100億度,占到臺積電總用(yòng )電量的大半。隨著制程技術向3納米(mǐ )、2納米甚至更小節(jié)(jiē )點(diǎn )推進,這一數(shù)(shù )字(zì )還將持(chí )續(xù)攀升。
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